滄海揚(yáng)帆摩爾定律你聽說過沒有08實(shí)驗(yàn)室正在研制的光刻膠，也是國家半導(dǎo)體后備技術(shù)的一部分。

在這個(gè)時(shí)期，光刻膠并不屬于國外向中國禁售的產(chǎn)品。國際上生產(chǎn)光刻膠的廠商眾多，國內(nèi)的半導(dǎo)體企業(yè)能夠輕而易舉地買到各種光刻膠，而且價(jià)格也并不昂貴。

然而，國家卻依然向楓林研究所下達(dá)了研制光刻膠的任務(wù)，其目的就是為了萬一遭遇到國外的封鎖，國內(nèi)自己也能夠提供出合用的光刻膠，確保少數(shù)關(guān)系國家安全的集成電路的生產(chǎn)不受影響。

所有的人都知道，國內(nèi)自己研制的光刻膠生產(chǎn)成本會(huì)遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于進(jìn)口產(chǎn)品，質(zhì)量則是遠(yuǎn)遠(yuǎn)不及，在市場(chǎng)上是絕對(duì)沒有競(jìng)爭(zhēng)力的。

但是，當(dāng)事關(guān)國家生死存亡的時(shí)候，這些問題還有必要考慮嗎？

楓林研究所研究的許多技術(shù)，都具有這樣的特征。相比西方國家而，這些技術(shù)平均要落后一至兩代，即使送給別人，人家也不屑一顧。

可這并不意味著楓林研究所的保密制度就是多余的。保密的目的在于讓對(duì)手不清楚我們的研究進(jìn)度到了哪一步，無論對(duì)方高估或者低估了我們的水平，都會(huì)在戰(zhàn)場(chǎng)博弈或者經(jīng)濟(jì)博弈中犯下一些或大或小的錯(cuò)誤，而這些錯(cuò)誤，可能就會(huì)成為我們的機(jī)會(huì)。

這是弱者的一種生存策略。

高凡對(duì)于國家的整體策略并不十分了解，但在他從云中明那里聽到“光致抗蝕劑”這個(gè)詞的時(shí)候，他就產(chǎn)生出了一個(gè)念頭：

或許，自己能夠做一些事情。

“徐師兄，我聽畢主任說，你們正在研究的是g線光刻膠。對(duì)于i線以及krf光刻膠，你們有沒有涉及？”高凡問道。

他說的畢主任，叫畢連生，是08實(shí)驗(yàn)室的室主任，一位不茍笑的中年知識(shí)分子。

光刻技術(shù)，按照使用的光源不同，可以分為許多類，或者稱為不同代際也可以。

上世紀(jì)60年代，光刻技術(shù)剛剛出現(xiàn)的時(shí)候，使用的是普通的可見光光源，那時(shí)候的光刻機(jī)其實(shí)就是拿一個(gè)大燈泡照射掩膜板，和照相館里沖洗照片沒啥區(qū)別。

80年代，光源進(jìn)化為采用高壓放電汞燈產(chǎn)生的436納米和365納米光源，前者稱為g線光源，后者稱為i線光源，都屬于近紫外光源。

90年代之后，出現(xiàn)了使用準(zhǔn)分子激光器的248納米、193納米和157納米光源，分別稱為krf、arf和f2光源，屬于深紫外光源。

再至于被譽(yù)為“皇冠上的明珠”的euv光刻機(jī)，使用的是133納米的極紫外光源，它的出現(xiàn)時(shí)間已經(jīng)要算到2010年之后了。

時(shí)下，g線光源還是集成電路制造中使用的主流光源。i線光源光刻機(jī)已經(jīng)問世，但還沒有得到大規(guī)模推廣。至于krf，實(shí)驗(yàn)室概念已經(jīng)提出來了，真正投入使用，還得是十年后的事情。

光刻的原理，與沖洗照片是一樣的。首先，要把電路圖制作成底片，稱為掩膜。光源通過掩膜照射在涂了光刻膠的芯片基材上。