光刻膠由樹脂、感光劑、溶劑和添加劑組成，其中的感光劑在光線照射下會發(fā)生反應(yīng)，使曝光區(qū)的光刻膠溶解，這就相當于把掩膜上的電路圖案復(fù)制到了芯片基材上。

隨后，再進行蝕刻、離子注入、封裝等操作，一枚芯片就制作完成了。

光刻膠中感光劑的選擇，與光源是密切相關(guān)的，這涉及到化合物在不同波長光線作用下的變化，機理十分復(fù)雜。

徐云是知道這些概念的。他原本就是物理系的學生，楓林研究所聘請他的老師前來參與這個項目，就是因為其中涉及到一些光學方面的問題。他在項目組里耳濡目染了這么久，對于這些問題自然是非常了解的。

聽到高凡的問題，徐云也只能把心里那些雜念拋開，認真地答道：“我們現(xiàn)在研究的重點，就是g線光刻膠，這也是目前應(yīng)用最廣泛的。

“i線光刻膠這方面，畢主任在實驗室會議上提過幾次，讓大家有時間做一些積累，不過目前條件還不成熟。再至于說krf光刻膠，好像國外也剛剛開始研究吧？”

“你說i線光刻膠的條件不成熟，是指什么？”高凡問道。

徐云道：“不是我說的，而是畢主任說的?，F(xiàn)在國內(nèi)根本就沒有使用i線光源的光刻機，國外也不多，研究i線光刻膠，是不是有些操之過急了？”

“我想跟你說的，就是這個?！备叻舱f，“對了，徐師兄，摩爾定律你聽說過沒有？”

“當然聽說過?！毙煸撇环薜卣f，“不就是集成電路上的晶體管數(shù)量，每兩年就增加一倍嗎？我們好幾個老師上課的時候都提過?！?

“不愧是科大，思維很前衛(wèi)。”高凡翹個大拇指，贊了一句，卻換來了徐云一個白眼。

摩爾定律是1965年提出的，不過直到70年代中期才受到人們的重視。隨著集成電路技術(shù)的迅猛發(fā)展，摩爾定律一再得到印證，一時間在西方科技界和產(chǎn)業(yè)界倍受推崇。

此時的中國，在全球半導體市場上完全是小透明，根本不具備評論半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的資格，因此也就沒什么人會關(guān)注和提及摩爾定律。

徐云說他有好幾位老師上課時候都提過摩爾定律，高凡自然是要表示欽佩的。只是以他的身份，擺出這樣一副嘴臉來夸獎中科大，徐云怎么能不對他表示一番鄙夷。

“既然你知道摩爾定律，那么你想想看，芯片制造技術(shù)將會以什么樣的速度發(fā)展？g線光刻機肯定很快就會落伍，下一代i線光刻機會迅速普及。不出十年，市場主流就會是krf光刻機?！备叻操┵┒?。

徐云在心里默想了一下，點點頭道：“你說得有理，不過，這也是國際市場的潮流吧？咱們國內(nèi)現(xiàn)在連g線光刻機都沒能掌握，你說的krf，怎么也得是20年以后的事情了。”

“我們?yōu)槭裁淳筒荒苊闇蕠H市場呢？”高凡看著徐云，“造光刻機，需要高精密機床，咱們一時造不出來?？墒枪饪棠z的技術(shù)沒多高的門檻，咱們?yōu)槭裁床荒芴崆耙徊秸碱I(lǐng)這個市場呢？”

.b